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ASML
全球唯一 EUV 光刻机供应商，先进制程的"咽喉公司"。一台 EUV $1.5 亿、High-NA $3 亿，是支撑 3nm/2nm/1nm 制程的不可替代基础设施。
一句话定位
EUV光刻 独家垄断（100%）+ DUV光刻 主导，2023 营收 $298.3 亿 超越 Applied Materials 成全球设备龙头，台积电 / 三星电子 / Intel / SK海力士 先进制程的核心瓶颈。
关键数据（2023-2024）
| 维度 | 数据 |
|---|---|
| 2023 营收 | $298.3 亿（据 2-10 报告） |
| 全球设备份额 | 第一（CR5 70%+ 中最大） |
| EUV 市占率 | 100%（独家） |
| EUV 单价 | $1.5 亿/台 |
| High-NA EUV 单价 | $3 亿/台 |
| 员工数 | 4 万+（2024） |
| 总部 | 韦尔德霍芬, 荷兰 |
| 客户集中度 | 台积电 / 三星 / 英特尔 / SK 海力士 / 美光 占 80%+ |
核心产品
- EUV 光刻机（NXE 系列） — 13.5nm 波长，支撑 7nm/5nm/3nm 先进逻辑 + HBM / 2-04-存储体系 量产
- High-NA EUV（EXE 系列） — 数值孔径 0.55，2024 起交付 Intel/TSMC，支撑 2nm/1.4nm/1nm
- DUV 光刻机（NXT 系列） — 193nm ArFi 浸没式，主流 7nm-28nm 节点；KrF 用于成熟制程
- YieldStar / e-beam 检测 — 与 KLA 竞争量测市场
- 服务与升级 — 装机量大，服务收入稳定贡献 25%+
技术亮点 / 护城河
- EUV 光源 — 收购 Cymer 锁定 LPP（激光产生等离子体）光源
- 光学系统 — 独家绑定 Zeiss（蔡司）反射镜，原子级精度
- 30 年研发积累 — EUV 从 1997 立项到 2019 量产投入 $200 亿+
- 专利壁垒 — 数万项核心专利覆盖光源、反射镜、双工件台
- 客户绑定 — Intel/TSMC/Samsung 是股东之一（2012-2013 客户共同投资计划）
AI 时代角色
- AI 算力扩产 3nm/2nm 先进制程 → EUV 出货量持续上行，2024 装机预期 60+ 台
- HBM 堆叠层数升级（HBM3E 12 层 → HBM4 16 层）→ DRAM EUV 渗透加速
- Intel 18A / 台积电 N2 / 三星电子 SF2 全部依赖 High-NA → 2026-2028 进入 High-NA 大规模交付期
- 是 NVIDIA B200/B300 等 AI GPU 制造链条的最上游底座
客户与供应链关系
- 核心客户：台积电 / 三星电子 / Intel / SK海力士 / 美光科技 / 中芯国际（仅 DUV）
- 关键供应商：Zeiss 蔡司（反射镜）/ Cymer（光源）/ TRUMPF 通快（激光器）/ 信越化学 / VAT（真空）
- 被禁运：自 2019 美荷协议起 EUV 禁运中国；2024 起部分 DUV 浸没式（NXT:2000i 及以上）亦受限
与 AI 产业链关系
↑ up::Zeiss Cymer TRUMPF ↓ down::台积电 三星电子 Intel SK海力士 美光科技 中芯国际 ⚔ competitor::尼康 佳能 上海微电子 Applied Materials KLA 东京电子 ∈ belongs_to::2-10-半导体设备与核心材料
关键事件
- 2019 — EUV 首次量产投入，台积电 7nm+ 采用
- 2024-01 — High-NA EUV 首台交付 Intel
- 2024 — 荷兰加入美对华出口管制，部分 DUV 浸没式机型对华禁运
- 2025 — 全年 EUV 出货预期 50+ 台