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第二层 · 美股 · 更新 2026·06·17
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KLA

KLA-Tencent · KLA Corporation · 科磊

KLAC NASDAQ/NYSE · 美股
主层
第二层 · 芯片系统
主子行业
半导体设备与核心材料
总部
米尔皮塔斯, 美国
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KLA

全球检测测量设备霸主(50%+),3nm/2nm 良率管理必备,先进制程"看见缺陷的眼睛"。

一句话定位

检测测量 全球 50%+ 独占(光学+电子束+套刻+膜厚),先进制程晶圆厂良率提升的核心 enabler,估值长期高于其他设备龙头(PE 30+)。

关键数据(2023-2024)

维度 数据
FY2024 营收 $96.9 亿
全球设备份额 第五(CR5 70%+)
检测测量市占率 50%+据 2-10 报告
光学检测份额 60%+
电子束检测份额 70%+(高端)
员工数 1.5 万+(2024)
总部 米尔皮塔斯, 加州, 美国

核心产品

  • Surfscan / Voyager — 无图案晶圆缺陷检测
  • PUMA / 28xx 系列 — 图案晶圆光学缺陷检测
  • eDR / eSL 电子束 — 高分辨率电子束缺陷复检
  • Archer 套刻测量 — 光刻套刻误差测量(与 ASML YieldStar 竞争)
  • Spectra 膜厚 — 介质/金属膜厚测量
  • CIRCL 封装检测2-05-先进封装 CoWoS 缺陷检测

技术亮点 / 护城河

  • 光学+电子束双轨:覆盖从快速光学扫描到高分辨率 EB 复检
  • 算法软件壁垒:AI 缺陷分类(ADC)算法 30+ 年积累
  • 客户工艺集成:与晶圆厂工艺工程师深度绑定,部分良率管理外包给 KLA
  • 3nm/2nm 必备:先进制程缺陷尺寸 < 10nm,仅 KLA 能稳定检出

AI 时代角色

  • 先进制程 3nm/2nm/1.4nm 良率压力极大 → 检测覆盖率从 5% 提升至 15-20%
  • HBM / CoWoS 多层堆叠 / 中介层 → 增加 KLA 封装检测设备投入
  • AI 芯片大芯片面积(NVIDIA H100 814mm²、B100 双 die)→ 缺陷概率指数增加,依赖更多检测
  • 2-10-半导体设备与核心材料 国产替代最难突破的细分领域

客户与供应链关系

与 AI 产业链关系

↑ up::半导体设备零部件 精密光学 ↓ down::台积电 三星电子 Intel SK海力士 美光科技 ⚔ competitor::ASML Applied Materials Hitachi High-Tech 睿励科学仪器 东京电子 精测电子 ∈ belongs_to::2-10-半导体设备与核心材料

关键事件

  • 1997 — KLA Instruments 与 Tencor Instruments 合并成 KLA-Tencor
  • 2019 — 收购 Orbotech 进入 PCB 检测
  • 2022-10 — 美 BIS 出口管制,3nm 以下检测设备对华禁运
  • 2024 — AI 浪潮下检测设备订单超预期,估值持续走高