JSR

日本 JSR（前身日本合成橡胶）— 全球 ArF / EUV 光刻胶份额 30%+，与 TOK / 信越化学 / 富士胶片 一同主导日本光刻胶垄断格局。2023 年日本政府主导基金 JIC 以 ¥9,039 亿（~$60 亿）私有化，剥离化合物半导体业务，专注光刻胶 + 生命科学。

一句话定位

光刻胶 全球 CR3 90%+ 中的核心一员（JSR / TOK / 信越）。覆盖 g 线 / i 线 / KrF / ArF dry / ArF immersion / EUV 全节点光刻胶，主供 台积电 / Intel / 三星电子 先进制程。EUV 光刻胶份额 30%+，是 ASML EUV 生态的关键化学耗材方。日本经济产业省（METI）+ 政府基金 JIC 在 2023 年主导私有化，目的是把 EUV 光刻胶纳入国家安全级供应链。

关键数据

数据来源：2-10 半导体设备与核心材料深度

核心产品

1. 光刻胶（Photoresist） ★★★★★：
   • EUV PR — 13.5nm，3nm/2nm 节点核心耗材
   • ArF immersion PR — 193i，7-22nm 节点
   • ArF dry PR — 193nm
   • KrF PR — 248nm，存储 + 成熟制程
   • i / g line PR
2. 半导体清洗液 / 抗反射层（BARC / ARC）
3. CMP slurry（次要业务）
4. 生命科学（蛋白纯化 / 抗体填料，与半导体业务并列）
5. 合成橡胶（已剥离 / 缩减）

技术亮点

• EUV 化学放大型光刻胶（CAR） — 13.5nm 波长极紫外光下感光机理，分辨率 / 线宽粗糙度（LWR） / 灵敏度三难权衡，JSR 在 3nm/2nm 节点跑通量产
• EUV 金属氧化物光刻胶（MOR） — 与 Inpria（被 JSR 通过合资进入，后 JSR 退出 Inpria；Inpria 现属 东京电子 关联）— 下一代方向
• ArF 浸没式 immersion PR — 7nm 工艺核心
• 配套 BARC + 显影液 + Top-coat 全套件

AI 时代角色

• AI 算力 3nm/2nm 先进制程量产 → EUV PR 需求暴涨，JSR 是 台积电 / Intel EUV PR 主供
• High-NA EUV（ASML $3 亿/台）下一代节点需要新 PR，JSR 重点研发
• HBM 工艺虽然多用 KrF/ArF，但 200+ 层 3D NAND 推动 KrF 需求长期增长
• 日本 METI + JIC 私有化 → 国家级供应链，强化与 台积电 日本熊本 fab、Rapidus 北海道 2nm 项目的绑定

典型客户

↓ down::台积电 Intel 三星电子 SK海力士 美光科技 GlobalFoundries 中芯国际 长江存储 Rapidus

与 AI 产业链关系

↑ up::ASML（曝光机生态）Inpria（曾合作金属氧化物 PR） ⚔ competitor::TOK 信越化学 富士胶片 DuPont 南大光电 彤程新材 晶瑞电材 ∈ belongs_to::2-10-半导体设备与核心材料 ∈ belongs_to::第二层-芯片系统

下游主战场：2-01-核心逻辑芯片 / 2-04-存储体系 / 2-05-先进封装

关键事件

• 1957 — 创立（日本合成橡胶 Japan Synthetic Rubber）
• 1979 — 进入半导体光刻胶
• 2017 — 与 Inpria 合作金属氧化物 EUV PR
• 2023-06 — JIC 私有化要约 ¥9,039 亿（政府背景基金主导）
• 2024 — 私有化交割完成，JSR 从东证退市
• 2024-2025 — Rapidus 2nm 北海道项目对 JSR EUV PR 锁定供应
• 2025 — 中国 南大光电 / 彤程新材 ArF PR 国产突围，JSR 在华低端市场压力增加

风险点

1. 国产替代 — 南大光电 ArF 已通过 中芯国际 验证
2. 私有化后透明度下降，公开数据缺失
3. EUV PR 高研发投入但单价高、用量小，回报周期长
4. 美对华禁运延伸到光刻胶（已发生：2023 日本对 23 项半导体材料/设备出口管制覆盖部分 PR）