东京应化
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业务概览
全球领先的半导体光刻胶（photoresist）厂商之一，产品覆盖 KrF / ArF光刻胶 / EUV 光刻胶及配套显影液、剥离液等湿电子化学品。光刻胶本质是化工制品，成本结构高度依赖上游基材与树脂，因此定价对化工品价格波动敏感——这是本页数据的核心背景。
关键数据
- 成本转嫁节奏在日本同业中最快：2026-04 上游溶剂涨价，2026-05 即向下游调价，整体涨幅约 10%，公司口径为「主要传递上游成本」而非提价扩利（据广发海外 2026-07-14）
- 涨价成因：光刻胶属化工制品，因中东冲突等因素导致基材与树脂等化工品成本显著上行；公司按不同产品的成本结构分别调价（同上，Q&A 环节）
- 中国客户备货行为：中国客户因担忧把库存从 1 个月提升至 3 个月，导致 2026 Q2 营收暂时下滑，但公司预计 Q3/Q4 恢复正常，判断并非实质性政策影响（同上）
上下游关系
相关来源
- 2-10-半导体设备与核心材料 — 子行业深度报告
- 广发海外--近期AI链总结总结 — 2026 日本产业链调研：涨价与中国敞口（Tier D）