中微公司(688012.SH)
中微公司是中国前道半导体设备厂商,卡位刻蚀这一关键工艺环节,凭 CCP/ICP 等离子体刻蚀和超高深宽比介质刻蚀能力进入存储与晶圆代工制造体系。 截至 2026 年 7 月,60:1 超高深宽比介质刻蚀设备已成为国内标配设备,下一代 90:1 设备即将进入市场;公司营业收入从 2020 年 ¥22.7 亿元增至 2025 年 ¥123.8 亿元。
一、主营业务与产品矩阵
- 等离子体刻蚀设备(核心)覆盖 CCP 与 ICP 两类等离子体刻蚀路线,产品包括 60:1 超高深宽比介质刻蚀设备、新一代 ICP 等离子体刻蚀设备和高选择性刻蚀机。截至 2026 年 7 月,60:1 设备已成为国内标配设备,下一代 90:1 设备即将进入市场。
- MOCVD 与外延设备MOCVD 是 GaN 外延关键设备,公司正在布局 GaN 功率器件领域,新型 MOCVD 已发往下游客户进行量产验证。2026 年 3 月,公司推出蓝绿光 MicroLED 量产 MOCVD 设备,将外延设备能力延伸至新型显示应用。
- 新工艺设备平台(ALD/外延/配套)公司以刻蚀为支点向原子层沉积、外延等关键工艺扩展,2025 年 9 月推出六款半导体设备新产品。配套募资中,高端半导体设备产业化项目拟投入 ¥38,338.89 万元,高端半导体设备研发中心项目拟投入 ¥34,702.57 万元。
二、产业链位置
在图谱里看 →三、各家研报目标价一览
仅一条目标价,无法比较机构分歧。
| 出具日期 | 机构 | 目标价 | 评级 / 要点 |
|---|---|---|---|
| 2026-07-22 | 交银国际证券 | 300.67 | 买入 |
四、竞争格局
刻蚀设备市场仍未完全收敛,海外龙头与国产厂商并存;中微公司的相对位置来自 CCP 介质刻蚀和超高深宽比工艺,60:1 设备已成为国内标配,下一代 90:1 设备即将进入市场,使其在存储扩产中有明确切入点。公司正从单一机台向平台化设备商扩展,2025 年 9 月以来新增原子层沉积、外延等产品线。短板在于盈利和竞争:毛利率从 2023 年 45.83% 降至 2025 年 39.17%;北方华创、拓荆科技、盛美上海、中科飞测等国内厂商也在薄膜沉积、质量控制等环节扩张,平台化竞争会拉长验证周期并压制价格。
五、盈利预测
研报数据 · 11-07 更新 · 点数字看原文出处
每格是近 180 天各家最新预测的中位数,下一行是最低—最高和家数。已公布的实际数见「行情与财报」。
| 指标 | 2026E | 2027E | 2028E |
|---|---|---|---|
| 归母净利润(亿元) | 28.8827.30–30.47 · 2 家 | 36.9134.60–39.22 · 2 家 | 42.601 家 |
| EPS(元) | 4.023.42–4.99 · 3 家 | 5.054.62–6.76 · 3 家 | 7.696.72–8.65 · 2 家 |
按机构看 · 归母净利润(亿元)
| 机构 | 2026E | 2027E | 2028E | 日期 |
|---|---|---|---|---|
| 东吴证券 | 08-03 | |||
| 国信证券 | — | 06-07 |
按机构看 · EPS
| 机构 | 2026E | 2027E | 2028E | 日期 |
|---|---|---|---|---|
| 华龙证券 | 10-13 | |||
| 国元证券 | — | 06-09 | ||
| 国金证券 | 05-22 |
行情与财报
六、投资视角:多空逻辑
七、近期动态(倒序)
研报数据 · 11-07 更新 · 近 120 天,同一件事多家机构写到的合成一条
数据来源
- 国金证券《电子行业研究:半导体设备交期拉长,全产业链印证“供不应求”加剧》2026-07-26
- 交银国际证券《要有光——光模块龙头增长动能或将持续;首予买入》2026-07-22
- 交银国际证券《产能替代窗口开启:大厂淡出与长鑫赋能共振》2026-07-17
- 国金证券《模型、算力、FAB、设备共振计算机业研究》2026-06-29
- 万联证券《2026年中期电子行业投资策略报告:AI风驰宇,芯浪起东方》2026-06-26
- 国信证券《策略专题研究:全球追逐AI,中国排位如何?》2026-06-22
- 开源证券《北交所首次覆盖报告:中科院真空设备龙头:打破海外垄断,半导体+光伏双驱迎来高增长》2026-06-15
- 国元证券《GaN功率半导体行业报告:应用场景加速拓展,数据中心与汽车电子贡献增量》2026-06-09
- 子行业全景见 半导体设备与核心材料