OPC（Optical Proximity Correction）
光学邻近效应修正 — 提升光刻精度的核心工具，是制造类 EDA 的关键环节（据 EDA电子设计自动化）。
是什么
是先进工艺（28nm 以下尤其 7nm/5nm/3nm）必备技术，EUV 时代更复杂（多重图形 / 反向光刻 ILT）。
全球玩家
- Synopsys Proteus — OPC 主流工具
- Siemens EDA Calibre nmOPC — OPC 龙头之一
- 这是少数能进入晶圆厂 production flow 的 EDA 工具
国产代表
- 全芯智造 — 国内制造类 EDA 龙头，重点布局 OPC / MDP（Mask Data Preparation）
- 客户：中芯国际 / 华虹半导体
- 拟 IPO（科创板，2026 Q4-2027 Q1）
战略意义
- 制造类 EDA 是国产 EDA 突破的"专精特新"路径
- OPC 与晶圆厂工艺深度绑定，国产 OPC 是国产光刻配套链的最后一公里