OPC（Optical Proximity Correction）

光学邻近效应修正 — 提升光刻精度的核心工具，是制造类 EDA 的关键环节（据2-07）。

是什么

当光刻图形特征尺寸 < 光波长，衍射效应会让实际成像偏离设计图形。OPC 通过反向修正掩膜（mask）图形（加 serif、bias、SRAF 等）补偿衍射，使晶圆上得到接近设计的图形。

是先进工艺（28nm 以下尤其 7nm/5nm/3nm）必备技术，EUV 时代更复杂（多重图形 / 反向光刻 ILT）。

全球玩家

• Synopsys Proteus — OPC 主流工具
• Siemens EDA Calibre nmOPC — OPC 龙头之一
• 这是少数能进入晶圆厂 production flow 的 EDA 工具

国产代表

• 全芯智造 — 国内制造类 EDA 龙头，重点布局 OPC / MDP（Mask Data Preparation）
• 客户：中芯国际 / 华虹半导体
• 拟 IPO（科创板，2026 Q4-2027 Q1）

战略意义

• 制造类 EDA 是国产 EDA 突破的"专精特新"路径
• OPC 与晶圆厂工艺深度绑定，国产 OPC 是国产光刻配套链的最后一公里

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关键来源

• 2-07-EDA电子设计自动化