光刻机三强之一（ArF 浸没式），面板曝光与半导体计量并进
…2026 年第二季度装机基础管理强于公司预期，并与新设备销售共同支撑毛利率。 二、产业链位置 所属：半导体设备与核心材料 竞品：佳能、尼康、KLA、Lam Research、Applied Materials、东京电子 — 同业…
…三、竞争格局 全球光刻机市场长期由 ASML、尼康、佳能主导，上海微电子是其中唯一成规模的中国玩家。在 IC 前道，它的已量产节点仍落在 90nm 至 28nm ArF 干式，与海外 EUV、High-NA EUV 存在代际差；…
…28nm-7nm 主力工艺。193nm ArF 浸没式光刻是先进制程的主力（EUV光刻 之前的全部节点 + 中国当前最先进节点）。ASML /尼康/ 佳能 三强格局，对华相对开放。中国 上海微电子 SSA/800 达到 28nm 节点（据 半导体设备与核心材料）。…
…这就像烘焙，大家用的原料是一样的。以前你还能在尼康的扫描仪和阿斯麦的设备之间做选择，现在所有人都用阿斯麦。你在光刻匹配上可以做不同选择，但大体…
